多晶硅生产中的氮气质量指标

各位大侠，小弟刚入行，做多晶硅。
近期遇到一个疑问，我们有两个项目，氮气指标差别很大，一个是空分制氮H含量在1PPm以下，另一个是变压吸附制氮H含量在0.2%。
请问各位大侠，同样是多晶硅项目，氮气质量指标为什么会有如此大的差别？

不是保密的问题，是因为你提出的问题与多晶硅行业并没有什么直接关系，两种不同的制氮工艺，没有差别才怪，一个是低温深冷，一个是变压吸附，没有太大的可比性。

原帖由 走进大自然 于 2009-2-1 21:11 发表
                                
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不是保密的问题，是因为你提出的问题与多晶硅行业并没有什么直接关系，两种不同的制氮工艺，没有差别才怪，一个是低温深冷，一个是变压吸附，没有太大的可比性。
工艺不同，氮气质量肯定不同。
但同样是多晶硅生产氮气质量指标差别液太大了吧?