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谈谈氮对多晶硅制备的影响

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发表于 2009-3-12 15:37:17 | 显示全部楼层 |阅读模式
多晶硅生产中, 三氯氢硅TCS进西门子CVD反应器前,在储罐中需要N2保护. 那么溶解在TCS中的
微量N对CVD反应有何影响? 大家谈谈看法.
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发表于 2009-3-12 17:52:40 | 显示全部楼层
貌似没有什么影响哦,只要氮气是合格的
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发表于 2009-3-12 18:31:45 | 显示全部楼层
据我所知,好像没什么影响

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发表于 2009-3-12 20:25:14 | 显示全部楼层
高纯氮气的影响,腐蚀较小 那确实的话i
[ 本帖最后由 fantian 于 2009-3-12 01:38 编辑 ]
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发表于 2009-3-12 20:39:14 | 显示全部楼层
一般为
99.999%的氮气 露点-60
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发表于 2009-3-13 14:48:18 | 显示全部楼层
5N的氮,露点-60
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发表于 2009-3-13 15:01:52 | 显示全部楼层
在SL中溶解度很小,同时又不会液化!!
影响可忽略!
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