多晶硅棒

发表于 2008-8-21 20:59:01

下部分长的很光滑,上部分怎么不光滑,是什么原因啊???

发表于 2008-8-23 15:08:59

气流从下面进，刚进入反应器，反应物浓度较高；而在顶部时反应物浓度就低一些了，气流呈湍流状态，从而产生的这种情况，
仅是个人分析，请高手指点

发表于 2008-9-15 10:55:05

上边温度太高，长的太快，晶粒的排列速率赶不上沉积速率，就出现这种坑坑哇哇的。建议把炉子顶部往高增加一些。

发表于 2008-9-23 22:11:36

上面不光滑主要是因为气速过快

发表于 2009-2-23 17:07:36

整根硅棒表面都在发热，为什么就顶部的温度高？我觉得不是温度分布不均，而是气场分布不均引起的。气流在炉顶部出现湍动，影响了Si在硅棒表面的沉积。

发表于 2009-3-5 21:24:50

几种因素可能都有，顶部温度高是因为横梁的影响。

发表于 2009-3-6 02:26:12

温度过高，生长过快的原因

发表于 2009-4-7 23:39:02

横梁附近的温度高
这是肯定的，大家也都认同了
如果说是气场不均
除了加高炉筒
把硅棒放短点是不是也可以呀（不记产量的情况呀）
还有没有其他的方法
比如说改动进气孔

发表于 2009-4-21 00:36:22

硅棒长的很难看

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