求多晶硅清洗水的技术指标

发表于 2008-3-27 10:45:56

本人想要一下[wiki]多晶硅[/wiki]清洗水的技术指标和[wiki]设备[/wiki]的工艺流程（最好再有0。5T/H的设备价格）。希望做过此项目的朋友回个帖。
我要具体并准确点的数据，比如出水8-9兆欧，用什么膜处理就能达到或是阴阳离子床能达到。谢谢

发表于 2008-3-27 17:28:23

好东西啊，我要下下来啊

发表于 2008-3-28 17:24:27

什么是好东西，你要下下什么来，一个回贴的都没有，我对这里的朋友有点失望了

发表于 2008-4-3 09:24:01

15兆以上，具体可以问制造商

发表于 2008-4-5 18:35:33

流程如下：自来水、原水箱、原水泵、叠片过滤器、超滤装置、水箱、RO给水泵、保安过滤器、高压泵、RO膜、中间水箱、EDI给水泵、0.45μ膜滤器、EDI装置、水箱、膜脱气装置、TOC脱除器、0.22μ膜滤器、超纯水箱、一级抛光混床、0.1μ终端膜滤器。

发表于 2008-4-10 11:56:01

呵呵好详细，你说的是超纯水，纯水就可以了满足需求了，考虑成本还是纯水用用吧

发表于 2008-6-4 17:40:55

看你用在那方面了？太阳能级和半导体级的用水差别很大。可以参照E1标准。具体可咨询生产厂家。

发表于 2008-10-16 16:18:29

纯水就可以了？满足需求了？

发表于 2010-4-14 14:52:21

要超纯水才能达到

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