用于CVD还原的三氯化硅的杂质

发表于 2010-7-24 21:57:42

我们生产中用于CVD还原的三氯化硅的杂质的金属、硼、磷、碳、氧是以什么形式存在呢？工艺上是如何控制和检测？

发表于 2010-7-26 17:00:47

主要在原料三氯氢硅里，氯化硼氯化磷可有通过气相色谱计算出含量，金属用ICP电感耦合等离子体测。

发表于 2010-7-26 17:01:27

版主应该多给加点分啊，小弟缺“钱”啊

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