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三氯氢硅和四氯化硅是否具有腐蚀性?重谢

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发表于 2010-10-14 17:06:16 | 显示全部楼层 |阅读模式
在不含水的前提下,三氯氢硅和四氯化硅对设备有腐蚀性吗?毒性如何(中毒、高、极度)?
一般如何控制介质中的含水量?有监测点吗?
一家企业说氯硅烷的罐子不能开罐检验,会进水生成盐酸所以想不开罐了,另一台尾气吸收塔是用来吸收反应尾气中的四氯化硅,据说因为活性炭不能开罐,也想不开罐做检验,但是该设备有夹套,外检做不到内筒,怎么办?我们压力很大啊,有机硅多晶硅行业都不开罐检验吗?有没有由于设备失效出过事故啊?
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发表于 2010-10-14 17:26:52 | 显示全部楼层
没有水的话对设备的腐蚀性不强,腐蚀主要是CL,在极低的PPM含水量下腐蚀能力加强
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发表于 2010-10-14 17:47:54 | 显示全部楼层
回复 1# realben
个人认为:
1)视水份含量而定。奥氏体不锈钢对氯离子很敏感,如果有水肯定腐蚀。如果干燥的氯硅烷,是没有问题的。这也是设计院选用不锈钢的原因。多晶硅生产中物料中的水份控制得非常严格,正常情况下没有问题。
2)压力容器的定期检查是必要的。只要开罐前彻底置换,开罐会立即清洗,对容器的腐蚀是很小的。
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 楼主| 发表于 2010-10-14 22:48:00 | 显示全部楼层
回复 3# 9tnt
    我接触的这两个都是碳钢SA516的相当于16MnR。不存在Cl离子开裂因素,只是考虑进水会水解成HCl的强腐蚀性。还有请教贵厂都开罐吗?采取的就是“开罐前彻底置换,开罐会立即清洗”的方案吗?效果如何?我接触的厂家不想开罐,我们有点担心风险太大。
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发表于 2010-10-14 23:14:24 | 显示全部楼层
我赞同“开罐前彻底置换,开罐后立即清洗,再用氮气催促干净,不留水分”,这样对设备的影响就不大
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发表于 2010-10-15 08:57:04 | 显示全部楼层
碳钢就更没有关系了。放心的洗,洗完尽快吹干,氮气保护。其实可能其它用户最头疼的不是腐蚀,而是再次投用前的清洗要彻底,要不然,对产品的铁离子污染。
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发表于 2010-10-15 13:17:16 | 显示全部楼层
开罐前彻底置换,开罐后立即清洗,再用氮气催促干净,不留水分:个人认为是可行的。
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发表于 2010-10-16 18:28:30 | 显示全部楼层
不要说开罐检查了,我遇到过几次开罐进去电焊的事情。也是同楼上说的开罐前彻底置换,处理好后立即清洗,再用氮气催扫干净使露点合格就完了。有活性炭的要麻烦点,要再生好,否则放出来的活性碳含大量四氯化硅很危险。
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发表于 2010-10-16 23:39:16 | 显示全部楼层
先置换 氮气保护一段时间 开罐 氮气排空 严格控制就行
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