还原炉雾化之后对多晶生产的影响

发表于 2011-3-24 17:07:07

还原炉雾化之后，产生的硅粉损坏设备，但是会节约电耗。请问坛友还有什么影响吗

发表于 2011-3-24 17:26:36

如果温度过低接触不均匀硅棒容易产生夹层

发表于 2011-3-24 18:44:16

回复 1# 巴赫
除了会产生温度夹层外，反应速率会下降。虽然点耗少了，但损失的TCS更多，成本更高，纯度也提布上去！

发表于 2011-3-24 18:48:03

雾化是由于TCS浓度过高，如果不是很严重，降低TCS流量，增加H流量会慢慢好转！
会导致质量不达标，纯度不够

发表于 2011-3-25 09:37:18

雾化的硅粉沉积在硅棒表面形成膨松的非晶硅层，而正常的硅在非晶硅上生长后，容易形成夹层，严重的导致脱落

发表于 2011-3-25 09:37:23

雾化的硅粉沉积在硅棒表面形成膨松的非晶硅层，而正常的硅在非晶硅上生长后，容易形成夹层，严重的导致脱落

发表于 2011-3-25 09:37:36

雾化的硅粉沉积在硅棒表面形成膨松的非晶硅层，而正常的硅在非晶硅上生长后，容易形成夹层，严重的导致脱落

发表于 2011-3-25 18:01:43

导致到处都是硅尘，不利于工作，伤身体。

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