干法氢含有HCl对于还原反应影响几何?

发表于 2011-9-10 19:44:36

本帖最后由阿歃于 2011-9-14 23:22 编辑

干法氢含有HCl对于还原反应影响几何?

发表于 2011-9-13 14:35:12

单纯从化学反应来看 5SiHCl3+H2=2Si+2SiCl4+H2+5HCl+SiH2Cl2+Q有点影响，但是干法中经过洗涤、吸附提纯，HCl含量已经很少了

发表于 2011-9-15 14:41:15

我也想知道具体怎么影响的资料上只是说到1140度以上会腐蚀硅棒，如果1140度以下不反应我们为何不通过控制温度而忽略氯化氢的影响

发表于 2011-9-15 16:40:21

我们见过腐蚀后的现象，但不是氢气的过程。而是反应过程中出现的

发表于 2011-9-17 08:32:00

个人觉得：CDI之后的氯化氢含量很少，即使又少量进入还原液没有多大影响，毕竟还原反应就会产生大量的氯化氢！

发表于 2011-9-19 15:43:18

听说HCL，在还原炉开车初期，容易造成硅棒与石墨夹头连接处熔化，以致可能造成倒棒。

发表于 2011-9-19 20:44:04

回复 6# yzhang2010
听说HCL，在还原炉开车初期，容易造成硅棒与石墨夹头连接处熔化，以致可能造成倒棒。请问您这一说法有什么依据呢，怎么个融化法，没听说过，请指教一下

发表于 2011-9-21 11:36:27

HCl含量不会造成直接影响，毕竟回收氢气的氯化氢含量相对于还原产生的氯化氢量可以忽略不计。主要还是其它微量杂质的影响多晶硅质量，可惜气体中很难测定。

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