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多晶硅问题。。。

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发表于 2008-9-24 12:31:42 | 显示全部楼层 |阅读模式
如果H2中含有HCL,很少量的HCl,这对还原反应有什么影响吗
有人问我这个问题,决定开一个讨论帖,论坛里 多晶硅的也 挺多的,希望大家多多发表意见。
[ 本帖最后由 rishionli 于 2008-9-24 12:37 编辑 ]
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发表于 2008-9-24 22:39:08 | 显示全部楼层
有可能抑制反应,即影响生成传说中的多晶硅的速度!
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发表于 2008-9-25 17:55:12 | 显示全部楼层
多晶硅还原反应中,HCL为副产物,因其反应为可逆反应,增加副产物会抑制反应
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发表于 2008-9-25 18:20:25 | 显示全部楼层
只要是绝对干燥的,没有什么影响。因为副产物有HCl,对氢气对浓度没多大影响。
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 楼主| 发表于 2008-10-2 11:40:37 | 显示全部楼层
大家多多发言啊。。。。。。
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发表于 2008-10-2 14:36:57 | 显示全部楼层
应该会抑制反应,HCL合成 氢化 还原 都有生成HCI。
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发表于 2012-6-7 08:33:50 | 显示全部楼层
长期收购多晶硅厂生产下来的废硅粉
张   13523724575
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发表于 2012-6-7 11:00:53 | 显示全部楼层
请参看下文,相信会有帮助。
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