多晶硅原料为什么不用四氯化硅用三氯氢硅

发表于 2011-7-30 00:09:21

理论上都是都可以的但是使用四氯化硅与氢气反应生产多晶硅的反应比较难，比三氯氢硅与氢气反应难，能耗很高，要亏本的啊
看看下面的资料：
   四氯化硅氢还原法
（1）    工业粗硅氯化制备四氯化硅
目前，SiCl4的工业制备方法，一般是采用直接氯化法，将工业粗硅在加热条件下直接与氯反应制得SiCl4。工业上常用不锈钢（或石英）制的氯化炉，将硅铁装入氯化炉，从氯化炉底部通入氯气，加热至200~300℃时，就开始反应生成SiCl4，其化学反应为：
Si + 2Cl2 = SiCl4
生成的SiCl4以气体状态从炉体上部转至冷凝器，冷却为液态后，再流入储料槽。
在生产中，一般将氯化温度控制在450~500℃，这样一方面可提高生产率，另一方面可保证质量，因为温度低时不仅反应速度慢，而且有副产品Si2Cl6、Si3Cl8等生成，影响产品纯度，但若温度过高，硅铁中其它难挥发杂质氯化物也会随SiCl4一起挥发出来，影响SiCl4纯度。
（2）    精馏提纯四氯化硅
四氯化硅中通常含有铁、铝、钛、硼、磷等杂质，但这些杂质可以通过精馏的方法除去。其原理就是根据四氯化硅与杂质沸点不同，它们具有不同的挥发能力，因而可以通过控制温度而将SiCl4与杂质分离，达到提纯的目的。
（3）    纯四氯化硅的氢还原
   精馏提纯后的四氯化硅与高纯度的氢气在高温的还原炉内发生还原反应而制得高纯硅，其反应如下：
SiCl4+2H2=Si+4HCl↑
实际反应比较复杂。由于SiCl4被氢还原的速率较SiHCl3氢还原法低，因此目前使用SiCl4氢还原法制高纯硅的较少。

发表于 2011-7-30 08:45:54

那可不可以用四氯化硅和三氯氢硅一起还原，对产品质量有影响吗？

发表于 2011-7-30 13:08:57

硅烷，二氯二氢硅，三氯氢硅，四氯化硅都可以，危险程度是递降的，还原难易程度也是递降的，综合考虑才选的三硅。

发表于 2012-11-21 14:22:59

楼主还在不？资料很不错，不过用硅粉和Cl2反应生产STC由实际经验么？最近STC市场火的很啊！

发表于 2012-11-23 15:55:45

没啥用.......成本太高....光用STC来做硅料,还在研究中..

发表于 2012-11-23 20:50:30

四氯化硅和氢气反应会生产三氯氢硅，不会直接生产硅啊，化学反应的问题。。

发表于 2012-11-23 21:37:40

由于反应温度不同，生成的硅的形态不同，而我们主要是为了得到晶体硅！

发表于 2012-11-24 18:07:56

四氯化硅跟二氯二氢硅用作原料对还原生产条件更加苛刻，综合考虑取其三氯氢硅，不过现在原料中混有部分二氯二氢硅可以提高其转化率，不过硅棒也会变脆了。。

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