还原炉中的二氯二氢硅

还原炉中，二氯二氢硅是如何产生的？
比例有多大？这个比例，可以是还原尾气进VGR前的，也可以是VGR氯硅烷中的含量？大家应该有分析。
其反应过程，我看有的资料上面讲是
2SIHCL3=SIH2CL2+SICL4，
有的资料上面讲是
SIHCL3+h2=SIH2CL2+HCl，
不知道哪一个是对的，或者还是由其他反应过程或方程？
我很想搞清楚这个问题，晚上都睡不好，白天吃不香，但问了很多人，都没人讲明白，想在这里搞明白。
谢谢了。

其实很多副反应可能是歧化反应、还原反应和氢化反应的结合体

那问什么还原炉里面还会产生好多细小的粉末，那玩意是什么啊，怎么产生的

硅沉积快则二氯二氢硅产生少，要想办法提升硅的沉积率才能大幅减少这个东西！

细小的粉末应该是不定型硅吧，应该是温度不合适造成的，越大的炉子，温场越不均匀，开起来越容易有这个粉末。。。还是要看温度和物料控制，具体的也说不好。