请教：多晶硅或单晶硅清洗工艺

tudoubaicai 发表于 2008-11-23 10:54:20

偶然听说多晶硅或单晶硅生产过程中可以添加一清洗工艺，对之是文盲，向大家请教：
1、清洗的目的是什么？
2、清洗的简单工艺？
3、清洗成本？
4、清洗过程对环境有无影响？

faded-shadow 发表于 2008-11-23 11:29:24

1.清洗的目的主要是除去硅表面的杂质吧
2.工艺大致是用酸浸泡，然后用纯水洗涤，之后烘干
3.成本不是很了解
4.洗后产生的烟气以及废酸均对环境有影响，需要用碱进行中和处理

LHY8771 发表于 2008-11-24 09:54:59

说的不错啊
清洗成本大概包括设备成本、材料成本、人工成本，不太好算
一般是用HF酸

tudoubaicai 发表于 2008-11-25 12:34:43

谢谢大家的帮助。
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HF是买成品的吧？

shengquanlin 发表于 2008-12-10 18:55:05

2楼的观点应该是比较正确的,成本还可以,只要制水的设备和酸

不断进取 发表于 2008-12-10 19:03:43

上面讨论的清洗方法主要是通过将硅溶解来去除表面的杂质，这样对硅的回收率影响较大
对于那些在生产加工过程中陷入硅体表面的杂质颗粒如碳颗粒等只能通过溶解硅达到除杂的目的
但对于表面粘附的面积较大的成片杂质用硝酸等较好

不断进取 发表于 2008-12-10 19:05:16

有些主要是除碳和二氧化硅

askformorepassi 发表于 2008-12-11 09:58:33

酸洗法，即为消解法。主要是为了去除多晶硅中的杂质，例如碳和二氧化硅等，要用到硝酸、氢氟酸和双氧水以及微波消解仪等！当然还有一些杂质是消解不掉的，比如碳化硅，应该是生产过程中的耐火材料带入的！

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