多晶硅生产中的氮气质量指标
各位大侠,小弟刚入行,做多晶硅。近期遇到一个疑问,我们有两个项目,氮气指标差别很大,一个是空分制氮H含量在1PPm以下,另一个是变压吸附制氮H含量在0.2%。
请问各位大侠,同样是多晶硅项目,氮气质量指标为什么会有如此大的差别?
不是保密的问题,是因为你提出的问题与多晶硅行业并没有什么直接关系,两种不同的制氮工艺,没有差别才怪,一个是低温深冷,一个是变压吸附,没有太大的可比性。 原帖由 走进大自然 于 2009-2-1 21:11 发表
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不是保密的问题,是因为你提出的问题与多晶硅行业并没有什么直接关系,两种不同的制氮工艺,没有差别才怪,一个是低温深冷,一个是变压吸附,没有太大的可比性。
工艺不同,氮气质量肯定不同。
但同样是多晶硅生产氮气质量指标差别液太大了吧?
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