三氯氢硅的仪表
由于多晶硅的生产越来越受人们的青睐,使三氯氢硅合成也连带火起来了,在三氯氢硅的合成中存在的一些问题也逐渐浮出水面。大家一起来讨论以下,三氯氢硅合成中的仪表改如何选型。因为硅粉的颗粒太小,而大多数DCS的仪表都有引压管,这就容易造成
仪表引压管的堵塞,进而出现仪表不准的情况,该如何避免这种情况造成的影响呢。
采用代隔离器的仪表! 定期用氮气或是氯化氢进行吹扫。 采用膜片式印压管,硅粉要定期吹扫,以硅粉的硬度,会对许多设备有损坏。 就地压力表用隔膜压力表,远传用单法兰变送器 四楼的 比较专业啊 定期用氮气吹扫,压力高的话可以用高压氢吹扫! 原料是氯化氢,就用氯化氢反吹;
如果是从氯气和氢气合成氯化氢做起,可用氢气反吹,,只是一般企业的氢气起死回生不高,,
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引压管可选用直径大一点的管子,在压力仪表处再变径就不容易堵住了 原帖由 YXMLJ 于 2009-4-9 19:12 发表
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引压管可选用直径大一点的管子,在压力仪表处再变径就不容易堵住了
我也同意你 的 说法,但是你 在多晶硅行业用过吗?,有没有实际经验。有多晶硅仪表经验的情给个QQ,本人QQ53089465
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