多晶硅区每日一题10.18
本帖最后由 wangli115 于 2011-10-18 08:00 编辑1.请大家隐藏回复,发帖后编辑无效!不隐藏直接删除!
2.隐藏方法:
https://bbs.hcbbs.com/thread-492556-1-1.html
3.所有回答必须是在北京时间10月18日有效时间内完成,谢谢您的参与。
今日题目为填空题,每小题回答正确得2财富,全部回答正确可得6财富,题目如下:
1、三氯氢硅合成工艺所需的原料是: 、 ;
2、在精馏操作中下层塔板上的液体涌至上层塔板,破坏了塔的正常操作,这种现象叫
3、国家标准GB16297-1996的HCl最大允许排放浓度为 。
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