大化工论坛 › 多晶硅新能源 › 多晶硅工艺【每日一题】2012.1.17

fuwasi 发表于 2012-1-17 08:13:47

多晶硅工艺【每日一题】2012.1.17

本帖最后由 fuwasi 于 2012-2-3 09:34 编辑
1.17每日一题：
多晶硅生产中，对于设备的清洗清洁要求严格，用数点法确认清洗率时，100cm2的被清洗表面直径为5mm-10mm的污垢残留三次取样平均应少于（ 1 ）个， 直径小于5mm的污垢残留应少于（ 3 ）个为合格。
（答案为1个、3个）
备注：
1
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dclpl 发表于 2012-1-17 08:16:51

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chenning1860 发表于 2012-1-17 08:20:59

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gzx925 发表于 2012-1-17 08:21:07

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xingxing916 发表于 2012-1-17 08:21:45

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lwdyc 发表于 2012-1-17 08:27:00

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liuys0108 发表于 2012-1-17 08:33:05

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39712553 发表于 2012-1-17 08:35:28

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wwyyahhb 发表于 2012-1-17 08:36:20

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ruyue0928 发表于 2012-1-17 08:40:38

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