heihei0202 发表于 2009-7-14 20:04:02

我也是做这个的，也是除学者哦，请大家多多指教

tcs1789@163.com 发表于 2009-7-14 22:29:26

氢氟酸不可以的。会与硅反应的。必须用热的混合酸洗才可以。

Minos 发表于 2009-8-9 21:38:54

氢氟酸不可以的。会与硅反应的。必须用热的混合酸洗才可以。
tcs1789@163.com 发表于 2009-7-14 22:29

                              
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查了一些资料，看到氢氟酸在常温下是不易于多晶硅和单晶硅反应的，只是容易和非晶硅反应，用稀释的氢氟酸洗多晶硅应该是可行的

cwhfftq 发表于 2009-7-14 22:29:00

楼上的是洗什么硅的，纯硅的酸洗就是要用到氢氟酸，只有用氢氟酸和其它清洗液才能洗去硅表面的污染物。并且要冷的酸液。

weixinmack 发表于 2009-8-26 16:53:02

甘肃银星能源正在准备用酸洗，物理法制多晶硅，中试已经在吴忠完成。
捷佳创的酸洗设备规模不足以支持千吨级规模的多晶硅工厂，他是洗硅片、规定的。

kitewxg 发表于 2009-8-28 09:32:45

15# weixinmack 您出现了严重的常识性的错误，是宁夏银星！而且吴忠也是宁夏的。谁说捷嘉创不适合千吨级的硅料清洗呢？

xiaoyu188 发表于 2009-8-28 14:35:46

酸洗过后的酸可以采用ARS进行处理，实现游离酸和杂质的分离，回收的酸可以重新使用。
阿派克环保科技
www.apex-tec.com

haohan1982 发表于 2010-7-1 11:45:32

本帖最后由 haohan1982 于 2010-7-12 10:33 编辑
酸洗过后的酸可以采用ARS进行处理，实现游离酸和杂质的分离，回收的酸可以重新使用。
请问楼主具体的工艺，我们自己在生产，酸在回收利用。不知过滤工艺是否成熟，请大侠指点。硅粉过滤是自己做的设备。不知各位高手有什么成熟的技术。

xiahj 发表于 2010-7-12 10:31:08

Si+4HNO3=3SiO2+2H2O+4NO
SiO2+6HF=H2SiF6+2H2O

wei8jun 发表于 2010-7-14 13:44:24

我感觉19楼说的是对的
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