sdkjdxlhl 发表于 2010-12-27 11:48:09

关于还原炉硅棒生长的问题

我们的还原炉采用的是SITEC的工艺，氢气与TCS的摩尔比是3：1；在实际生产中，硅棒生长缓慢，出一炉130-150mm的硅棒需要200多个小时，该如何进行控制，使其生长速度加快呢？另外，我们有一炉硅棒刚刚生长了30多个小时，就发现外圈靠近视镜的那组硅棒棒体发黑，生长速度超快，比内圈和中圈的硅棒要粗3-4倍，视镜空里能看到不定型硅生成。这是什么原因呢？该如何解决？

伊甸园 发表于 2010-12-28 15:41:16

适当提高炉压能一定程度上加快反应速度，提高生长率

yuanrs 发表于 2010-12-28 19:16:24

生长速度确实很慢，如果温度达到了的话，估计是炉内压力或进料速度没达到的原因吧

游离在乍浦 发表于 2010-12-28 23:09:14

配比低电流可以跟紧一点前期料量要给足

505 发表于 2010-12-29 21:02:08

能耗特高，参数还需好好调整

miaoquan 发表于 2011-1-14 11:04:30

温度要及时跟上，配比不能太死，应根据炉内生长情况，及时补料，不定型硅应该就是由于温度造成的
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