请教诸位大师多晶硅生产工艺中设备的腐蚀、开裂情况

realben 发表于 2011-3-15 10:11:55

小弟从事压力容器检验行业，关注多晶硅行业已久，请教大家的装置哪些设备曾出现过腐蚀、开裂。原因又是什么呢？尤其欢迎设备员们的经验之谈！在此先行谢过！

king70868 发表于 2011-3-15 10:38:25

楼主，相对来说多晶硅装置设备的腐蚀损坏大多先发生在冷凝器和加热器系统，主要为材料、制造和应力原因发生泄漏，发生水解反应，产生酸和水解物再进一步腐蚀损坏，说白了就是恶性循环。

realben 发表于 2011-3-15 10:50:26

回复 2# king70868
感谢您的帮助！请问您指的是氯硅烷遇水水解形成的盐酸腐蚀吗，请教您水一般来自哪里，一般系统水含量有严格的控制要求吧？是从Cl2和H2开始控制吗？

king70868 发表于 2011-3-15 10:59:08

回复 3# realben
水指的的是冷却水和加热蒸汽。

realben 发表于 2011-3-15 16:39:10

回复 4# king70868
您的意思是，正常情况下冷却水和加热蒸汽都不会有机会和氯硅烷接触，但是如果因为某种原因，设备产生漏点了才会发生氯硅烷的水解吧？漏点的产生一般是什么原因呢？因为氯硅烷本身似乎没有腐蚀性，制造遗留问题吗？

dengjiebo 发表于 2011-3-15 18:03:23

有的漏点是因为应力腐蚀产生的，应力产生腐蚀，腐蚀使得设备更不耐应力，慢慢的质变产生量变，腐蚀的机理主要是三氯氢硅与水反应产生盐酸，盐酸再腐蚀设备。

xz66 发表于 2011-4-11 10:01:00

用热管就好了，不会有接触的机会。

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