tomatomeatrice 发表于 2011-10-25 11:50:23

请教HCL除水问题

本帖最后由 yizhuxuan 于 2011-12-8 17:06 编辑
合成方法：氢气和氯气燃烧合成
除水方法：要把水量控制在100PPM以下，考虑用冷冻盐水冷却，同时用浓硫酸进行除水
问题：设备的选择？温度控制范围？浓硫酸的浓度？除水之后的浓硫酸浓度？

xichengtao 发表于 2011-10-25 22:34:53

冷冻盐水将HCL冷却到-18左右（-22会结晶），两级浓硫酸淋洗，一级控制到80%，二级控制到95%，冷却系统前用石墨冷凝器，高温管道部分（80度以上）用20#无缝钢、低温部分聚丙烯，一级淋洗系统管道、设备聚氯乙烯材质，二级淋洗以后全部普通碳钢。（我一直这么用，效果很好）

hopef 发表于 2011-10-26 10:00:28

本帖最后由 yizhuxuan 于 2011-12-8 17:07 编辑
很多三氯氢硅厂家也选择增加了除雾器进行进一步的处理，如洛阳中硅、尚宇、重庆三阳化工、泰安阳光硅业、新龙硅业、三孚硅业...

543323944 发表于 2012-3-2 22:47:50

合成的HCL去水就很好办了，盐水19℃左右，两级冷却，最后再加个捕雾器，肯定在100ppm以下了。

543323944 发表于 2012-3-2 22:48:36

对不起上面那个温度是-19℃
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