多晶硅铸锭脱模
多晶硅和单晶硅生产时，在原料熔化、晶体生长过程中，硅熔体和坩埚长时间接触会产生黏滞性。由于两种材料的热膨胀系数不同，如果硅材料和坩埚壁结合紧密，在晶体冷却时很可能造成晶体硅或坩埚破裂。高纯氮化硅脱模剂粒度在0.5-1微米之间，可以有效地解决在涂层高温固化过程中的氧化问题，防止坩埚内壁与熔融硅料粘接，方便脱模，同时起到阻隔层作用。与纳米氮化硅或其他类型脱模剂相比，高纯微米氮化硅具有优异的抗氧化性能，确保生产过程中碳、氧等杂质浓度获得有效控制，使多晶硅和单晶硅的纯度获得大幅度提高，其粉末的纯度可达99.99％以上,可用作光伏工业中熔炼多晶硅铸锭的石英坩埚涂层材料。我公司根据多晶硅和单晶硅生产工艺特点，与中科院、清华大学合作，开发出石英坩埚专用脱膜剂-高纯度氮化硅及相关喷涂工艺。
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